台積電與Nvidia、Synopsys和ASML合作　加快2奈米技術發展

編譯／施毓萱

全球半導體龍頭台積電正在與Nvidia、Synopsys和ASML合作，希望加快開發2奈米或其他先進代工工藝。這些公司決定加強在微影技術方面的合作，而微影技術是在矽晶圓上雕刻電路圖案的過程。Synopsis將以電子設計自動化(EDA)公司角色來提供軟體支持該專案，而ASML將負責製造和提供極紫外光(EUV)微影設備。

其中，由GPU晶片設計公司Nvidia提供的技術備受關注，因為據說Nvidia的加速運算(accelerated computing)技術對台積電的2奈米技術發展至關重要。Nvidia表示有一種名為 cuLitho的技術可以實現相關工作，且其性能比傳統微影技術的性能高40倍。

Nvidia首席執行官黃仁勳也肯定這樣的合作關係，因為這將促使半導體製造廠增加產量，同時又能減少碳排放。

這些半導體行業的頂級公司的合作將有助於台積電發展2奈米或更小工藝。這一發展未來將為半導體的小型化做出重要貢獻。台積電不僅正在加快2奈米技術的開發，也在加快2奈米晶片的直接生產，而目前台積電已經開始在新竹建設生產2奈米晶片的新工廠。未來也預期最早會在2026年於桃園龍潭科技園區設1奈米工廠，並於2027年試點生產、2028年大規模生產。

資料來源:BUSINESS KOREA

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