ASML深紫外光源微影工具　荷蘭禁止向中國出口

編譯／施毓萱

荷蘭計劃進一步限制向中國出口晶片製造設備。荷蘭貿易部長Liesje Schreinemacher表示，在對國家安全進行評估後，荷蘭政治中心海牙(Hague)決定在夏季之前將部分最新型號的深紫外光源(DUV)微影(lithography)工具列入其出口管制清單。管制目的旨在防止荷蘭產品助長不良最終用途，如軍事部署或大規模殺傷性武器，同時還能維持荷蘭的技術領導地位。

目前荷蘭已經限制了一些製造先進半導體所必需的極紫外光源(EUV)微影設備的出口。這一決定將影響荷蘭科技巨頭ASML公司在沒有特定出口許可證的情況下向中國出口產品的能力。

ASML在先進的EUV微影設備方面幾乎享有壟斷地位，是各晶片製造巨頭的重要供應商。截至2021年，ASML控制了全球171億美元微影設備市場九成以上。中國占ASML銷售額的15%，因此出口限制可能會嚴重阻礙中國晶片製造商的未來發展。尤其是中國為了實現半導體自給自足，長期以來一直以建立世界一流的本土晶片產業為目標，而實現的過程中一定需要ASML的EUV機器。

中國駐荷蘭大使針對荷蘭這一政策警告，如果荷蘭繼續禁止ASML向中國出口更多晶片機械的話，這勢必會損害兩國間的關係。可見荷蘭的政策將會再次打擊中國晶片產業，並成為美國的助力之一。

資料來源:SWARAJYA

瀏覽 530 次