據報導，台積電的EUV設備數量，自2019年起實現了十倍成長，從僅數台增至2023年的超過100台，
台積電將成為繼英特爾後，第二家獲得最先進極紫外光（High-NA EUV）設備的晶片製造公司。據《日
儘管台積電曾表示，其A16 晶片不需要使用艾司摩爾高數值孔徑High-NA EUV 曝光機製造，但在
由於投資者對人工智慧（AI）產品興趣激增，台積電 2 奈米下一代半導體技術的強勁需求，計畫明年將增加
荷蘭政府禁止艾司摩爾（ASML）出售「極紫外光曝光機」（EUV）給中國，中國一旦犯台ASML和台積電
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據報導，有報告就指出，台積電由 ASML 製造的極紫外光微影製程（EUV） 機器，安裝了一個「終止開
據韓媒《TheElec》報導，ASML 截至明年上半年絕大部分高數值孔徑 EUV 設備的訂單，已經由
極紫外光刻機（Extreme ultraviolet lithography，簡稱EUV）是極紫外光
記憶體大廠美光科技（Micorn）日前啟用位於后里的A3廠區，將在今年引進美光第一台EUV（極紫外光
