儘管台積電曾表示,其A16 晶片不需要使用艾司摩爾高數值孔徑High-NA EUV 曝光機製造,但在
由於投資者對人工智慧(AI)產品興趣激增,台積電 2 奈米下一代半導體技術的強勁需求,計畫明年將增加
荷蘭政府禁止艾司摩爾(ASML)出售「極紫外光曝光機」(EUV)給中國,中國一旦犯台ASML和台積電
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據報導,有報告就指出,台積電由 ASML 製造的極紫外光微影製程(EUV) 機器,安裝了一個「終止開
據韓媒《TheElec》報導,ASML 截至明年上半年絕大部分高數值孔徑 EUV 設備的訂單,已經由
極紫外光刻機(Extreme ultraviolet lithography,簡稱EUV)是極紫外光
記憶體大廠美光科技(Micorn)日前啟用位於后里的A3廠區,將在今年引進美光第一台EUV(極紫外光
半導體巨頭台積電正在以其最新進展徹底改變半導體產業。傳該公司將在明年分別於第一季和第三季,啟動台灣楠
全球第二大記憶體晶片製造商SK海力士,記憶體技術處理方面領先三星電子一步,開發首款第六代10 奈米(