近日有研究團隊使用具有窄線寬的193 nm固態雷射取代ArF振盪器,開發出名為「混合ArF準分子雷射
編譯/高晟鈞 示意圖:123RF 光子晶片的問世,徹底改變了數據密集型技術。這些由雷射光所驅動的設備
編譯/高晟鈞 美國國家可再生能源實驗室(NREL)和薄膜光伏製造商First Solar使用裂紋薄膜
極紫外光刻機(Extreme ultraviolet lithography,簡稱EUV)是極紫外光
來自洛桑聯邦理工學院的Yang Liu博士和Tobias Kippenberg教授領導的科學家團隊,
從傳統2D到3D微流體結構的轉變是微流體技術的重大進步,為科學和工業應用帶來了好處。這些3D系統在填
在人際關係中,更緊密的空間、相處時間都會加深彼此的感情聯繫。這種現象不只存在於人與人的互動,也適用於
ASML作為提供全世界各大最先進半導體公司晶片製造機器的唯一生產商,於二月展示最新一代High NA
來自慕尼黑大學的Tim Liedl研究室的研究團隊,利用DNA奈米技術開發了一種製造光子晶體的新方法
據韓媒《TheElec》報導,ASML 截至明年上半年絕大部分高數值孔徑 EUV 設備的訂單,已經由