去離子、消毒、過濾　淨水技術影響半導體行業

編譯／高晟鈞

在過去10年中，市場對半導體晶片的需求猛增，而這勢頭仍呈指數成長中。其中，晶片的製造仰賴於獲得高純度水來清潔半導體晶圓，因此水淨化技術在當今半導體行業起著至關重要的作用。

半導體行業每年估計使用將近1萬公升的水。雖然在電子產品中大量用水聽起來可能自相矛盾，但由於半導體涉及許多不同塗層與黏合材料的工藝，為確保每個晶片的安全與功能，需要以高純度水在整個製造過程中對晶圓進行清潔與沖洗。水對於維護製造設備本身也至關重要。許多類型的設備和機械都使用水冷系統，以確保設備能夠以最高效率運行。

用於半導體製造的水需要經過嚴格淨化，以達到行業標準。水必須經過去離子、消毒和過濾等階段，以清除任何汙染物與不需要的礦物質。由於晶片製造過程中，許多汙染物是人眼不可視的，因此製造高質量的超純水，對於晶片製造過程的成功相當重要。

水淨化系統也包括了洩漏檢測與排放監測等等。它可以最大限度地減少過程中浪費的純淨水量，並且降低對環境造成的不良影響。晶片製造的廢水很多含有像是重金屬、有毒化學品等有毒物質，需要透過可靠的水淨化系統，確保這些物質不會透過任何管道進入生態系統與城市水系統當中。

循環水系統對於半導體製造也相當重要，儘管直觀來說，使用回收水來對需要高質量超純水清洗的晶圓來說，有些不可能。然而，通過循環水，可以減少過程中製造的廢水，減少碳足跡的同時，還能減少全球淡水資源的壓力。

超純水是晶片製造的關鍵，是當今許多行業和供應鏈的必要組成部分。缺乏有效的純化技術，半導體製造商將無法生產出高質量的芯片。淨化技術還確保水可以在製造過程中循環利用，從而限制半導體行業的碳足跡。

資料來源:PowerElectronicsNews

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