傳美國政府有意推動英特爾、台積電進行合資？分析師這樣看

編譯／莊閔棻

投資銀行Baird分析師Tristan Gerra的透露，美國政府正推動英特爾與台積電成立合資企業，目標是在美國開展多項晶圓廠建設計畫，以強化本土半導體製造能力。該企業將由2家公司共同持有，但由台積電負責經營。

美國希望台積電協助英特爾

據報導，隨著台積電位於亞利桑那州的Fab 21廠擴建計畫正在加速推進，美方希望台積電應用其極紫外光微影製程（EUV）技術的大規模量產經驗，來提升英特爾的製程技術。

根據Gerra的說法，美國官員建議英特爾，將其現有及在建的3奈米和2奈米晶圓廠，納入合資企業，而台積電則派遣技術人員進駐，以提升製造技術水準。這些工廠預計將獲得政府補助，確保美國擁有穩定的先進晶片供應鏈。

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合作有助英特爾減輕財務壓力

Gerra承認，目前尚未有官方確認該傳聞，且計畫實施恐需時日。然而，分析師認為，該策略在商業層面具有邏輯性。若合作成真，英特爾將能減輕財務壓力，專注於晶片架構與平台解決方案，同時保有製造能力。此外，該晶圓廠若能順利運作，將吸引主要晶片設計公司，成為地緣政治風險較低的製造選擇，確保產能利用率。

英特爾與台積電製程難以兼容

然而，此傳聞在技術層面引發疑慮。半導體製造技術的共享主要依賴兩種方式：一是協助對方調校生產設備，二是將既有製程移植到新晶圓廠。但英特爾和台積電的製造流程存在明顯差異，使技術整合充滿挑戰。

台積電工程師難以調整英特爾製程

首先，台積電工程師對英特爾的EUV製程並不熟悉，短期內難以進行有效調整。此外，英特爾的3奈米製程已進入量產階段，18A製程也即將進入大規模生產，英特爾先前曾表示，18A製程不需額外調整，尤其不需要外部工程師介入。

晶圓廠設備與製程的兼容性問題

其次，將台積電製程技術移植到英特爾的美國工廠亦困難重重。即使兩家公司都使用EUV微影技術，其設備設置、晶圓廠配置及供應商的調整方式均不同。例如，艾司摩爾的微影機台，通常會依晶圓代工廠需求進行客製化校準，此外，英特爾和台積電在蝕刻製程、沉積步驟與製程控制等方面也有顯著差異，將影響設備兼容性與生產效率。

英特爾和台積電仍未證實合資

目前，英特爾和台積電均未對此傳聞發表正式回應。然而，Gerra指出，這項合作具有可行性，特別是對英特爾而言，有助於改善現金流。此前，英特爾已將其晶圓代工業務獨立為一個事業單位，市場上也傳出英特爾可能進一步剝離代工業務的消息。

參考資料：gurufocus、Tom’s Hardware

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