台積電100台EUV 確保先進製程領導地位

編譯／莊閔棻

台積電在全球半導體產業中再創佳績，其EUV曝光機的全球市占率已達56%，彰顯了其在先進製程領域領導地位。低數值孔徑（NA）的EUV曝光機，是目前最昂貴的半導體製造設備之一，每台造價超過1億美元，而台積電對該設備的投資逐年增加，顯示其對新技術的積極部署。

十倍增長背後的持續投資

據報導，台積電的EUV設備數量，自2019年起實現了十倍成長，從僅數台增至2023年的超過100台，這樣的擴展使其在全球市場的占有率，從2020年的50%上升到如今的56%。台積電每年都投資數十億美元於設備和技術研發，確保其能在不斷變化的市場需求中保持競爭優勢。

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審慎引進高NA EUV技術

對於下一代高NA EUV技術，台積電採取審慎評估的策略。台積電回應媒體時表示，將根據高NA EUV的成熟度、成本和對客戶的潛在效益，評估是否將其納入大規模量產。該策略反映了台積電在技術創新上的謹慎態度，確保每一項技術革新都能帶來實質收益。

佔據先進製程領先地位

自2019年推出全球首個商業化EUV製程N7+以來，台積電不僅積極擴大其EUV設備規模，也不斷升級技術以滿足市場對高效能晶片的需求，台積電目前的N7+、N5及N3製程均廣泛運用了EUV技術，並正引領全球晶圓代工市場的先進製程需求。

分析師看法：進一步擴展供應鏈生態系

業內分析師認為，台積電的持續投資不僅將強化其自身的競爭力，也將有助於其供應鏈的整合與擴展。隨著全球半導體需求的增長，台積電的設備優勢使其能迅速回應市場需求，並進一步穩固其全球晶圓代工領域的領先地位。

台積電的競爭者與未來挑戰

值得注意的是，除台積電外，三星也正在其7LPP、5奈米及3奈米製程中運用EUV技術，並積極引入動態隨機存取記憶體（DRAM）生產領域。

參考資料：SCMP

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