台積電擴大投資   124 億美元買EUV曝光機 

編譯／莊閔棻

由於投資者對人工智慧（AI）產品興趣激增，台積電 2 奈米下一代半導體技術的強勁需求，計畫明年將增加資本支出。消息人士稱，台積電 2024 年資本支出可能在 320 億美元至 360 億美元之間，增長 12.5% 至 14.3%，創下該公司史上第二高金額，最大受益者將是荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）。

台積電訂購大量ASML曝光機

據報導，台積電 2024到2025 年將接收超過 60 台的ASML極紫外光微影製程（EUV） 曝光機，使今明兩年的 EUV 曝光機投資將超過 124 億美元。目前ASML的EUV曝光設備供不應求，從訂購到交付的整體週期達到16至20個月，而台積電將於今年和明年分別訂購約 30 台和 35 台 EUV 曝光機，其中大部分訂單將於 2026 年開始交付。

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主要用於2和3奈米先進晶片

在台積電 2024 年第一季財報電話會議上，管理層強調，該公司 2024 年的資本支出將在 280 億美元至 320 億美元之間，高層表示，支出取決於長期需求趨勢，並補充說，多達 80% 的預算將用於製造 3 奈米和 2 奈米等先進晶片。

擴大在台 2 奈米晶片生產

此外，供應鏈消息人士也認為，由於台積電對其 2 奈米產品的需求強於預期，該公司計畫增加該技術的額外製造能力，其中包括在台灣南科地區的製造基地增加 2 奈米產能，擴大已計畫在竹科寶山新工廠和高雄工廠的 2 奈米產能，若累積起來，台積電將能夠在遍佈台灣的八家工廠生產先進晶片。

參考資料：wccftech、Passionate Geekz

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