極紫外光刻機(EUV)
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極紫外光刻機(Extreme ultraviolet lithography,簡稱EUV)是極紫外光(EUV)波長的下一代微影技術。用於製做半導體晶片過程中製造非常小的圖案和結構,可以讓每個晶片上容納更多元件,進而提高晶片的整體性能。
極紫外光刻機的技術難度非常高,在半導體中被認為是非常關鍵的技術,並且將會成為未來半導體製造中的核心技術之一。
參考來源:ChatGPT
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極紫外光刻機(Extreme ultraviolet lithography,簡稱EUV)是極紫外光(EUV)波長的下一代微影技術。用於製做半導體晶片過程中製造非常小的圖案和結構,可以讓每個晶片上容納更多元件,進而提高晶片的整體性能。
極紫外光刻機的技術難度非常高,在半導體中被認為是非常關鍵的技術,並且將會成為未來半導體製造中的核心技術之一。
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