極紫外光刻機（EUV）

極紫外光刻機（Extreme ultraviolet lithography，簡稱EUV）是極紫外光（EUV）波長的下一代微影技術。用於製做半導體晶片過程中製造非常小的圖案和結構，可以讓每個晶片上容納更多元件，進而提高晶片的整體性能。

極紫外光刻機的技術難度非常高，在半導體中被認為是非常關鍵的技術，並且將會成為未來半導體製造中的核心技術之一。

參考來源：ChatGPT

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