台積電攜手輝達推cuLitho創新工具  加速晶片設計步伐

編譯／黃竣凱

輝達的主要晶片製造商台積電正採用該公司開發的 cuLitho 平台，一套專門針對運算式微影過程的工具，幫助加速輝達最新 GPU 的生產，包括 H200 系列和備受期待的 Blackwell 架構，儘管 Blackwell 架構曾因硬體問題而推遲，但此技術有望助力台積電克服生產挑戰。

cuLitho 加速計算運算式微影過程

據報導，輝達開發的 cuLitho 工具庫，能透過 GPU 加速將某些運算式微影的計算速度提升至 40 倍。對於台積電這樣的晶片製造商來說，這可以顯著減少設計和生產的時間，輝達指出，通常製作一套晶片的光罩需要 3000 萬小時的 CPU 計算時間，而 cuLitho 庫僅需 350 顆 H100 GPU 就能取代大量伺服器，進而減少成本、空間和能源消耗。

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光罩製作時間縮短至隔夜完成

輝達表示，在過去需要兩週時間來處理的光罩，使用 cuLitho 工具庫能夠在一夜之間完成，而且每天可生成的光罩數量增加 3 到 5 倍，極大地提升了晶片製造的效率。

運算式微影技術對晶片製造非常重要

運算式微影技術是晶片製造中非常重要的步驟，像台積電這樣的公司透過演算法和模擬，來優化製作晶片所需的光罩，在晶片特徵縮小至奈米級的情況下，這一過程變得愈加複雜且耗時，但確保晶片上細微結構的精準度仍非常重要。

台積電與輝達攜手推動生產流程變革

台積電執行長魏哲家於今年早些時候的輝達GTC 大會上表示，「我們與輝達的合作，將 GPU 加速計算整合進台積電的生產流程，已經取得了顯著的性能提升、驚人的產能改進、縮短的生產周期，以及減少的能耗。」

Blackwell 架構遇阻 設計缺陷已解決

台積電正在為輝達生產下一代晶片，但由於 B200 晶片處理器存在設計缺陷，Blackwell 架構的生產時間被推遲，原定今年出貨的部分批次預計將推遲至 2025 年。對此，輝達則也確認，問題已解決，並表示對這款強大 GPU 的需求已超過供應量。

參考資料：Capacity Media

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